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ArF和KrF是光刻技术中用到的深紫光源，目主厂商采用的全是KrF。
ASML和台积电作，在林坚的带领下，早开始大规模往ArF方投，这也是后续ASML实现技术垄断的关键素一。ωωw.
说到这里就多说两句，大光刻是半导中的关键设备，用于将设计图案转移到晶圆上。
是具光刻是怎作业的，多人不是清楚。简单来说先在晶圆面涂上一层光敏的光刻胶，这种光刻胶会在紫......光照射下发生学应，后改变的溶。
国内光刻被卡脖子，光刻胶同样被卡脖子。
后用光掩膜，一个上面有着细微图案的透载，细微图案了集成电中的不同元和互连。光掩膜被放置在光刻的光源和硅晶圆间。
光刻中的光源（KrFArF）照射到光掩膜上。
光过图案的开放区域，被阻挡的分与图案对应。
后，光过投影光学统，该统将图案缩放聚焦到硅晶圆上涂有光刻胶的面。
经过曝光后，光刻胶中的光敏材发生学变。
在阳光刻胶中，曝光区域变更容易溶；在阴光刻胶中，曝光区域变更不容易溶。
将硅晶圆浸显影液中，溶掉光刻胶中发生学变的区域。这样，光掩膜上的图案就被准确地转移到硅晶圆面的光刻胶上。
光刻胶图案成后，过刻蚀、掺杂金属沉积步骤将逐层构出完整的芯片。
在没有线上百科，不对，现在已经有Quora百科了，总能够准确说出ArF和KrF证周在光刻领域还是有较深研究的。