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【烘：100C90s(DHP)
曝光：G线步进式曝光/接触式曝光统
显影：AZ300MIF显影液23C60～300s
清洗：离
烘：120C60s
剥离：AZ剥离液及/氧离灰】
叶非完数据，是满的点头，笑：“不错！”
叶非两光刻胶组的副组长：“辛苦们了。”
两笑：“这亏院长您国众研究员的帮助。”
“如没有国众研究员对光刻胶的研究资，还有您供的数学式，们无研光刻胶。”
叶非笑：“虽供一帮助，研光刻胶的是们。”
聊了片刻，叶非继续投入研究。
时已经了份，光刻研究刚有一时间。
这一时间，们攻克了光刻胶、接触式非接触式技术、曝光统、调节统EDA软件。
叶非：“剩随误差控了，随误差控研究来，光刻便研究来了。”
叶非一开始的思路是确的。
国现有的知识，碳基芯片光刻。
再的数学知识。
所，研究光刻的效率非常的。
这时，助站在实验室门口，叫：“院长！”