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当，时的绝大部分记们不如要生产90纳米和65纳米芯片。
实不一定需要采用5浸没刻机技术，研发采用的ArF刻机技术也行。
为的ArF刻机的源波长是193nm，这193nm源波长理论上高是能生产65纳米芯片的。
不能考虑到短，还要考虑到长乃至更长的未来发线。
5浸没刻机技术是个神奇的技术，这技术在去年2003年10才研发完成推出一刻机产。
时这5浸没刻机虽已经有了许多技术专墙在，还没有成如同世一样绝对无法突破的技术专铜墙铁壁。
时的曙科技还有着绕过阿思麦与台积店诸多浸没刻机技术专墙的可能，所以能局还是局得。
否则等阿思麦与台积店在浸没刻机上注册的专越来越多，后彻底成为绝对无法突破的铜墙铁壁，曙科技就彻底失去了浸没刻机技术的研发可能。
虽就算失去了浸没刻机也似乎可以去研发六EUV刻机，这EUV刻机实际当于一个全领域了。
EUV刻机采用的是13.5nm的极紫线（EUV）源，能加工7纳米以下的芯片，理论上上马六EUV刻机更。